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Für Sub-1nm-Prozesse: ASML arbeitet an Hyper-NA für EUV-Belichter

Herausforderungen, Halbleiterfertigung, Hyper, Apertur, Prozesse, Belichtern, Für, Belichter, Überlegungen, Sub Die Überlegungen werden konkret: ASML arbeitet an EUV-Belichtern mit numerischer Apertur von 0,75. ... mehr ... 17. Juni 2024

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